Основою методу є осадження випаруваної з молекулярного джерела речовини на кристалічну підкладку. Незважаючи на просту ідею, метод вимагає складних технологічних рішень, а саме:
підтримання в робочій камері надвисокого вакууму (порядку 10−8 Па);
високу чистоту матеріалів, що випаровуються (має складати 99,999999%).