三甲基硅烷或三甲基硅化氢,是一种有机硅化合物,化学式为C3H10Si,结构简式(CH3)3SiH。它是一种极易燃的物质。三甲基硅烷用于半导体工业中的等离子相腐蚀剂。[1]
参见
参考资料
- ^ Chen, Sheng-Wen; Wang, Yu-Sheng; Hu, Shao-Yu; Lee, Wen-Hsi; Chi, Chieh-Cheng; Wang, Ying-Lang. A Study of Trimethylsilane (3MS) and Tetramethylsilane (4MS) Based α-SiCN:H/α-SiCO:H Diffusion Barrier Films. Materials. 2012, 5 (3): 377. doi:10.3390/ma5030377.